-
气相反应法- 等离子体气相反应法 （ PCVD 法 ）[
2020-12-27
]
-
PCVD 法的激发方式是用等离子体激发 , 在等离子体激发时会产生非常多的热量 ， 反应气体在超高的温度下进行反应从而制备出超细的氮化硅微粉 。 此法具有升温迅速 、 急剧冷却...
-
气相反应法-激光气相反应法[
2020-12-27
]
-
激光气相反应法（LICVD 法 ）LISVD 法与高温气相反应法不同 ， 是用 CO 2 激光器为源头激发 NH3与 SiH4 气体 ， 使其进行反应制备氮化硅微粉的方法 ， 制得的粉体粒径小于 50nm 。...
-
气相反应法-高温气相反应法[
2020-12-27
]
-
气相反应法气相反应法是反应物在气态进行化学反应的方法 ，是用 SiCl4一类的卤化物或者是SiH4之类的硅氢化物作为反应体系中硅的来源，在高温下通入氨气来合成制备...
-
液相反应法- 溶胶-凝胶法[
2020-12-27
]
-
将溶胶-凝胶法与碳热法相结合,使用硅溶胶 、炭黑以及尿素为原料，于1500℃反应2h 制备出 50-80nm 的氮化硅纳米粉 。以正硅酸乙酯 (TEOS ) 和酚醛树脂为原料 ， 硝酸铁为添加...
-
液相反应法-热分解法[
2020-12-27
]
-
热分解法又称硅亚胺和胺化物分解法，是在零度的环境中，将 SiCl4 在干燥的己烷中和过量的无水氨气发生界面反应,从而生成了固体的亚胺基硅或胺基硅;再将生成的物质于1400...
-
固相反应法- 自蔓延法 ( SHS 法)[
2020-12-27
]
-
自蔓延法又称为燃烧合成法，是在短时间内通过点燃粉料使其产生高热反应后自行推进 , 直到反应结束 。 此法可以大大减少合成氮化硅时所需要的能量,并且所得粉体有极高的纯度...
-
固相反应法-碳热还原二氧化硅法[
2020-12-27
]
-
此法的原料是一定纯度的石英粉和高纯炭粉(焦炭或木炭) ， 将原料混合均匀后放入反应炉内通入氮气或者氨气加热到1400℃ 进行反应,二氧化硅会先和碳进行还原反应，生成单质硅后...
-
固相反应法-硅粉直接氮化法[
2020-12-27
]
-
硅粉直接氮化法是制备氮化硅微粉的一种非常传统的合成法 ， 因为其合成成本较低,被广泛应用于大规模的工业生产制造中。其主要生产流程为: 将高纯的硅粉放入氮化炉中 , 通入...
-
氮化硅微粉固相、 液相和气相反应制备方法[
2020-12-27
]
-
氮化硅陶瓷具有优异的高温力学性能 、 抗热震性能和抗侵蚀性能,其应用领域越来越广 ， 氮化硅陶瓷的制备首先需要性能良好的氮化硅粉体 , 并具有下列特征...
| 页次：1/1 每页25 总数9 首页 上一页 下一页 尾页 转到: |
|
